TA1高純鈦靶99.9%鈦圓靶濺射圓靶

發布時間：2020-11-13 14:59:52 丨 瀏覽次數：306

鈦靶材

TA1高純鈦靶99.9%鈦圓靶濺射圓靶

鈦含量≥：99.8（%）  雜質含量：0.02（%）  重量：不等（kg/塊） 

牌號：TA0，TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)  

鈦圓靶 ：技術條件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97 

鈦板靶 ：技術條件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93

用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業 

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